业界领先的集成化半导体器件参数测试解决方案,为科研教学提供专业级测量平台
采用工业级精度标准,同时兼顾教学易用性, 为半导体工程教育提供专业级实验环境。
三款典型场效应管器件,涵盖JFET和MOSFET主要类型,为教学实验提供完整的器件谱系
采用硅平面工艺制造,PN结栅极结构, 具有优良的温度稳定性和低噪声特性, 适合小信号放大和高阻抗缓冲应用。
采用HEXFET技术,具有快速开关特性、 低导通电阻和高耐压能力,适合功率开关 和高频应用场景。
P沟道设计使其在高端驱动应用中具有优势, 特别适合负载开关和电源管理电路, 与N沟道器件形成互补结构。
| 对比项目 | 3DJ6 (JFET) | IRF620 (NMOS) | IRF9530N (PMOS) |
|---|---|---|---|
| 控制机制 | PN结耗尽 | 栅极电场感应 | 栅极电场感应 |
| 输入阻抗 | 108~1011Ω | 1012~1015Ω | 1012~1015Ω |
| 开关速度 | 中等 | 快速 | 中等 |
| 温度特性 | 良好 | 一般 | 一般 |
| 噪声水平 | 低 | 中等 | 中等 |
| 工艺复杂度 | 简单 | 复杂 | 复杂 |
高精度源测量单元是半导体参数测量的核心技术,实现精密的电压/电流源与测量功能一体化
专为FET栅极控制优化,具有极低的电流输出能力, 适合高阻抗栅极驱动,避免栅极过载损伤。
具备强大的电流驱动能力和宽动态范围测量, 支持自动量程切换,确保全电流范围的精确测量。
基于SMU平台的智能化电压-电流特性测试系统,实现器件特性曲线的自动化测量与分析
确保实验安全和测量精度的关键要素,掌握正确的连接方式和安全防护措施
从多个维度深入对比三种典型场效应管的技术特性,理解不同器件的优势与应用场景
| 性能指标 | 3DJ6 (NJFET) | IRF620 (NMOS) | IRF9530N (PMOS) | 评价标准 |
|---|---|---|---|---|
| 输入阻抗 |
高
109Ω级
|
极高
1012Ω级
|
极高
1012Ω级
|
越高越好 |
| 开关速度 |
中等
~100ns
|
快
~10ns
|
中等
~50ns
|
越快越好 |
| 导通电阻 |
中等
~100Ω
|
低
0.8Ω
|
低
0.6Ω
|
越低越好 |
| 噪声特性 |
优秀
低1/f噪声
|
良好
中等噪声
|
良好
中等噪声
|
越低越好 |
| 温度稳定性 |
优秀
补偿特性
|
一般
负温度系数
|
一般
负温度系数
|
越稳定越好 |
| 驱动能力 |
小
~10mA
|
大
~5A
|
大
~6.5A
|
根据应用需求 |
| 工艺复杂度 |
简单
双极工艺
|
复杂
CMOS工艺
|
复杂
CMOS工艺
|
影响成本 |
场效应管测量技术在现代电子工业中的广泛应用和未来发展趋势
精密的参数测量技术直接影响芯片产品质量, 是现代半导体制造不可或缺的核心技术。